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X射線(xiàn)金屬鍍層膜厚測(cè)試原理 及優(yōu)缺點(diǎn)

2017-08-28 15:06:50 optima 168


操作機(jī)理 

覆蓋層單位 面積質(zhì)量(若密度已知,則為覆蓋層線(xiàn)性厚度)和二次輻射強(qiáng)度之間存在一定的關(guān)系。  對(duì)于任何實(shí)際的儀器系統(tǒng),該關(guān)系首先由已知單位面積質(zhì)量的攫蓋層校正標(biāo)準(zhǔn)塊校正確定。若筱蓋層  材料的密度已知,同時(shí)又給出實(shí)際的密度,則這樣的標(biāo)準(zhǔn)塊就能給出覆蓋層線(xiàn)性厚度。  (注:筱蓋層材料密度是攫蓋狀態(tài)的密度,不一定是側(cè)妞時(shí)的彼蓋層材料的理論密度。如果該密 度與校正標(biāo)準(zhǔn)的密  度不同,應(yīng)當(dāng)采用、一個(gè)反映這種差別的系數(shù)并在測(cè)試報(bào)告中加以評(píng)注)

熒光強(qiáng)度是元素原子序數(shù)的函數(shù),如果表面覆蓋層、中間覆蓋層( 如果存在)以及基體是由不同元素  組成或一個(gè)覆蓋層由不止一個(gè)元素組成,則這些元素會(huì)產(chǎn)生各自的輻射特征.可調(diào)節(jié)適當(dāng)?shù)臋z測(cè)器系  統(tǒng)以選擇一個(gè)或多個(gè)能帶,使此設(shè)備既能測(cè)量表面覆蓋層又能同時(shí)測(cè)量表面覆蓋層和一些中間覆蓋層  的厚度 和組成

激發(fā) 

x射線(xiàn)光譜方法測(cè)定覆蓋層厚度是基于一束強(qiáng)烈而狹窄的多色或單色 x射線(xiàn)與基體和覆蓋層的相互作用。此相互作用產(chǎn)生離散波長(zhǎng)和能量的二次輻射.這些二次輻射具有構(gòu)成蓋層和基體的元素特征。 

x射線(xiàn)管發(fā)生器或適當(dāng)?shù)姆派湫酝凰乜僧a(chǎn)生這樣的輻射。

1.由高壓 x射線(xiàn)管產(chǎn)生 

穩(wěn)定條件下如果對(duì) x射線(xiàn) 管外加足夠的電位,則能產(chǎn)生適當(dāng)?shù)募ぐl(fā)輻射。大多數(shù)厚度測(cè)量要求的  外加電壓約為 25kV-50kV,但為了測(cè)量低原子序數(shù)覆蓋層材料,可能有必要將電壓降至 10kV。由于應(yīng)用了安裝在 x射線(xiàn)管和試樣之間的基色濾色器,降低了測(cè)量的不確定度。 

該激發(fā)方法的主要優(yōu)點(diǎn)為

 通過(guò)準(zhǔn)直,能在很小的 測(cè)量面上產(chǎn)生一束極強(qiáng)的輻射束

 人身安全要求容易保證 ;

 通過(guò)現(xiàn)代電子學(xué)方法可獲 得足夠穩(wěn)定的發(fā)射。 

2.由放射性同位素產(chǎn)生 

只有幾種放射性同位素發(fā) 射的 I射線(xiàn)在能量帶上適合覆蓋層厚度測(cè)量。理想的是,激發(fā)輻射的能  量比要求的特征 x射線(xiàn)能量稍高(波長(zhǎng)稍短),放射性同位素激發(fā)的優(yōu)點(diǎn)在于儀器結(jié)構(gòu)更緊湊,這主要 GB/T16921-2005ASO3497:2000  是因?yàn)闊o(wú)需冷卻。此外,與高壓 x射線(xiàn)管發(fā)生器不同,其輻射是單色的而且本底強(qiáng)度低。 

x射線(xiàn)管方法相比,其主要技術(shù)缺點(diǎn)是:

    所得強(qiáng)度低得多,不能進(jìn)行小面積測(cè)量 ;

   些放射性同位素半衰期短高強(qiáng)度放射性同位素帶來(lái)人員 防護(hù)問(wèn)題(高壓 x射線(xiàn)管可簡(jiǎn)單關(guān)閉)。


底部簡(jiǎn)介

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